Nasi koledzy opublikowali artykuł w czasopiśmie za 200 pkt.
30.04.2021
Nasi koledzy opublikowali artykuł w czasopiśmie za 200 punktów ministerialnych. Artykuł pod tytułem "Defect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardment", który ukazał się w czasopismie Measurement, jest wynikiem współpracy pomiędzy grupamia Dr Michałowskiego z Instytutu Mikroelektroniki i Fotoniki, oraz grupą prof. Postawy z naszego Zakładu. Serdecznie gratulujemy!